ASML 着眼未来：考虑推出通用 EUV 光刻平台，覆盖不同数值孔径

ASML每年大概生产5台High-NA EUV光刻机，其中2025H1前大部分送往英特尔

半导体需求下滑拉低业绩，阿斯麦的“过渡年”业绩有何特点？

下一代光刻机来了?阿斯麦(ASML.US)今年将推出首个实验性EUV芯片制造工具